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光路干涉是物理學(xué)中的一個(gè)現(xiàn)象，指的是兩列或兩列以上的波在空間中相遇時(shí)，由于它們的疊加或抵消，從而形成新的波形。這一現(xiàn)象在光學(xué)中尤為明顯，尤其是在光的干涉中，表現(xiàn)為在某些區(qū)域光振動(dòng)始終加強(qiáng)（形成明條紋），而在另一些區(qū)域則始終減弱（形成暗條紋），從而出現(xiàn)明暗相間的干涉條紋圖樣。

光路干涉檢測(cè)范圍

電子元件、金屬材料、化妝品、藥品包裝、建筑材料、光學(xué)鏡片、航空航天零部件、汽車零配件、半導(dǎo)體器件、液晶顯示屏、生物細(xì)胞、醫(yī)療設(shè)備、食品包裝、玻璃制品、纖維材料等。

光路干涉檢測(cè)項(xiàng)目

表面粗糙度、光譜特性、薄膜厚度、形貌偏差、干涉條紋密度、幅度分布、頻譜分布、干涉對(duì)比度、光學(xué)透過(guò)率、反射率、折射率、位移變化、平面度、曲率半徑、斜率角度、表面平整度、相位差、圖像畸變、光學(xué)色散、步進(jìn)距離誤差等。

光路干涉檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)(部分)

DIN 65571-4-1992 航空和航天.增強(qiáng)纖維.激光干涉法測(cè)定纖維直徑

DIN EN ISO 3868-1995 金屬和其他無(wú)機(jī)鍍層.鍍層厚度測(cè)定.F氏多光束干涉法

GB/T 7962.3-2010 無(wú)色光學(xué)玻璃測(cè)試方法 第3部分：光學(xué)均勻性 全息干涉法

ASTM E2244-2011 用光學(xué)干涉儀測(cè)量反射薄膜共面長(zhǎng)度的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ASTM E2246-2011 用光學(xué)干涉儀測(cè)量反射薄膜應(yīng)變梯度的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

BS ISO 16063-11-1999 振動(dòng)和沖擊變換器的校準(zhǔn)方法 第11部分:使用激光干涉測(cè)量的初步振動(dòng)校準(zhǔn)

ASTM E2245-2011 用光學(xué)干涉儀測(cè)量反射薄膜殘余應(yīng)力的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

DIN 50441-3-1985 半導(dǎo)體工藝材料的檢驗(yàn); 半導(dǎo)體片幾何尺寸的測(cè)量; 用多射線干涉法測(cè)定拋光片表面的平面偏差

ASTM F1364-2003(2010) 使用校準(zhǔn)設(shè)備證實(shí)非破壞性干涉激光成像輪胎檢驗(yàn)系統(tǒng)的檢驗(yàn)?zāi)芰Φ囊?guī)程

暫未查詢到更多檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)歡迎聯(lián)系我們的檢測(cè)工程師咨詢。

光路干涉檢測(cè)流程

1、溝通需求(在線或電話咨詢);

2、寄樣(郵寄樣品支持上門取樣);

3、初檢(根據(jù)客戶需求確定具體檢測(cè)項(xiàng)目);

4、報(bào)價(jià)(根據(jù)檢測(cè)的復(fù)雜程度進(jìn)行報(bào)價(jià));

5、簽約(雙方確定--簽訂保密協(xié)議);

6、完成實(shí)驗(yàn)(出具檢測(cè)報(bào)告，售后服務(wù))。

檢測(cè)報(bào)告作用

1、為產(chǎn)品提供進(jìn)出口服務(wù)。

2、為相關(guān)的研究論文提供數(shù)據(jù)。

3、控制產(chǎn)品品質(zhì)，降低產(chǎn)品成本。

4、根據(jù)檢測(cè)報(bào)告的數(shù)據(jù)，改進(jìn)產(chǎn)品質(zhì)量。

5、協(xié)助公檢法部門對(duì)樣品質(zhì)量進(jìn)行檢測(cè)或成分化驗(yàn)。

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